ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社とソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社は、第70回（令和5年度）大河内賞において、「高輝度・高精細なOLEDマイクロディスプレイの開発と量産化」にて「大河内記念生産賞」を受賞しました。
今回の受賞は、ミラーレスカメラの電子ビューファインダー（EVF）向けに、高い画質を実現する高輝度で高精細なOLEDマイクロディスプレイの開発と量産化の実績が高く評価されたものです。

一般的に、ミラーレスカメラは、EVFを通して撮影画像をリアルタイムで確認できることが特長です。今回受賞の対象となった当社のOLEDマイクロディスプレイは、オンチップカラーフィルターやオンチップレンズ、輝度バラつき補正画素回路などの独自技術により、EVFの高輝度、高精細、広色域、高速応答を実現しました。これにより、プロフェッショナル用途も含めたミラーレスカメラの普及拡大を促進しました。今後大きな市場が期待されるAR/VR/MR向けヘッドマウントディスプレイにも貢献する技術です。

大河内賞は、故大河内正敏博士の功績を記念して設けられ、わが国の生産工学、生産技術の研究開発、および高度生産方式の実施などに関する顕著な功績を表彰する権威ある賞です。この度当社が受賞した「大河内記念生産賞」は、生産工学、高度生産方式などの研究により得られた優れた発明または考案に基づく産業上の顕著な業績をあげた事業体に贈られる賞です。

今後も当社は、産業の発展に貢献する生産技術の確立などに取り組んでいきます。

ご参考： 大河内賞に関する当社の過去の受賞案件
・第57回大河内記念生産賞 「高画質裏面照射型CMOSイメージセンサの開発と量産化」
・第58回大河内記念生産賞　「超高精細反射型ディスプレイデバイスの開発と4Kデジタルシネマ投影機の実用化」　
・第61回大河内記念生産特賞 「積層型CMOSイメージセンサの開発と量産化」
・第65回大河内記念生産賞 「Cu-Cu直接接合手法を用いた積層型CMOSイメージセンサの開発」
・第66回大河内記念生産賞 「マイクロLEDを用いた高画質でスケーラブルな大型ディスプレイシステムの開発」
・第69回大河内記念生産賞　「“Cu-Cu接続”を用いた高精細な積層型SWIRイメージセンサの製造技術と実用化への貢献」